全球首台！苏大维格大型紫外 3D 直写光刻设备 iGrapher3000 投入运行

　　7月28日消息 苏大维格科技官方宣布，大型紫外 3D 直写光刻设备 iGrapher3000下线并投入工业运行。iGrapher3000 主要用于大基板上的微纳结构形貌的 3D 光刻，是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台，堪称为光电子产业基石性装备，为产业合作创造新机遇。

　　从集成电路图形的平面光刻，迈向光电子的 “微结构形貌”的 3D 光刻，iGrapher3000 为新颖材料和功能光电子器件提供了先进手段，下图为 iGrapher3000 紫外 3D 光刻装备(110 吋幅面，2500mmx1500mm)照片和微纳结构形貌 SEM 照片。

　　此次安装在维业达科技有限公司黄光车间的 iGrapher3000，首个工业应用项目是大尺寸透明导电膜的深槽结构微电路模具，并将用于大面积平板成像、柔性导电器件和全息显示与 3D 显示研发和产业化应用。

　　面向大面积新颖材料与功能器件的需求，大型紫外 3D 光刻系统面临的挑战有：

　　第一，表达 “微纳结构形貌”的数据量极大，如，55 吋幅面透明电路图形数据量约 15Tb，相同尺寸平板透镜的微结构数据量 >150Tb;

　　第二，海量数据数据的运算、压缩传输与高速率光电转换技术;

　　第三，三维数字光场曝光模式与作用机理;

　　第四，微纳结构形貌的精确光刻工艺，包括 3D 邻近效应补偿、自适应 3D 导航自聚焦模式;

　　第五，高速运动平台、紫外光机系统制造工艺与纳米精度控制技术。

　　苏大维格科技介绍，苏大维格浦东林博士带领科研人员，十多年来一直开展 3D 光刻技术、纳米光刻硬软件、数据处理算法和精密控制技术研发。经多轮迭代，攻克了 3D 光刻重大瓶颈，研制成功以 iGrapher3000 为代表的系列紫外 3D 直写光刻装备并在工业界应用。

　　iGrapher3000 率先在 110 吋幅面玻璃基板上实现连续面型微结构大面积平板器件，深度范围 50nm~20 微米;率先建立海量数据处理能力并转化成所设计的微纳结构形貌，涉及单文件数据量达 600Tb;率先建立支持 110 吋光刻胶板厚胶制程(2 微米~ 25 微米)，用于后继印版工业化生产。

　　大面积 3D 光刻印版(110 吋，自主制备，厚胶制程)

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